Oxidarea suprafeței tijelor de carbură de siliciu utilizate pentru a genera pelicule subțiri de dioxid de siliciu

În timpul utilizării, suprafața tijei de carbură de siliciu se oxidează pentru a forma o peliculă de dioxid de siliciu. Utilizarea prelungită crește filmul de dioxid de siliciu și valoarea rezistenței tijei din carbură de siliciu. Filmul de silice suferă o expansiune și o contracție anormală în apropierea punctului critic de cristalizare (270 de grade). Datorită fluctuației constante a temperaturii în timpul utilizării intermitente a cuptorului, pelicula de dioxid de siliciu este spartă în mod repetat pentru a accelera oxidarea. Prin urmare, atunci când temperatura cuptorului de întrerupere a curentului scade la temperatura camerei, rezistența crește adesea brusc. Dacă valorile rezistenței tijelor din carbură de siliciu sunt diferite, sarcina tijelor din carbură de siliciu cu rezistență mare este mai concentrată atunci când sunt conectate în serie, ceea ce poate duce cu ușurință la o creștere rapidă a rezistenței unei anumite tije din carbură de siliciu și la o durată de viață mai scurtă. Tijele din carbură de siliciu sunt utilizate în general în combinație cu cabluri în serie și paralele. Se recomandă utilizarea a două conexiuni în serie ca grup și apoi a mai multor conexiuni paralele. Mai ales când temperatura din interiorul cuptorului depășește 1350 de grade, acesta trebuie conectat în paralel. Se recomandă utilizarea cablajului în delta deschis pentru cablarea trifazată.